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SK하이닉스는 메모리 업계에서는 처음 양산용 High NA EUV 장비를 이천 M16팹에 도입했다.SK하이닉스는 이번에 네덜란드 ASML의 트윈스캔 EXE:5200B 장비를 반입했으며 이는 High NA EUV 최초의 양산용 모델이라고 3일 밝혔다.High NA EUV는 기존 EUV보다 해상도를 크게 높여 현존 장비 중 가장 미세한 회로 패턴 구현이 가능하다. 이를 통해 선폭 축소와 집적도 향상에 중요한 역할을 할 수 있다.이 장비는 기존 EUV 대비 40% 개선된 광학 기술로 1.7배 정밀한 회로 형성
SK하이닉스가 메모리 업계 최초로 양산용 ‘하이 NA 극자외선노광장비’ 장비를 이천 M16팹에 반입하고 기념 행사를 진행했다고 3일 밝혔다.High NA EUV는 해상도를 크게 향상시킨 차세대 노광 장비로, 현존 가장 미세한 회로 패턴 구현이 가능해 선폭 축소 및 집적도 향상에 핵심 역할을 할 것으로 기대된다. 이날 이천캠퍼스에서 열린 행사에는 ASML코리아 김병찬 사장, SK하이닉스 차선용 부사장, 이병기 부사장 등이 참
SK하이닉스가 메모리 업계 최초로 양산용 ‘High NA 극자외선’ 장비를 이천 M16 팹에 도입하며 차세대 D램 생산에 나선다.하이 NA EUV 장비는 기존 EUV보다 높은 개구수를 적용해 해상도를 향상시킨 차세대 노광 장비로, 미세 회로 패턴 구현이 가능해 선폭 축소와 집적도 향상에 핵심 역할을 할 것으로 기대된다.3일 SK하이닉스 이천캠퍼스에서 열린 장비 반입 기념 행사에는 김병찬 ASML코리아 사장, 차선용 SK하이닉스 부사장, 이병기 부사장 등이 참
SK하이닉스는 차세대 메모리 양산용 'High NA EUV' 장비를 이천 M16팹에 반입하고 기념 행사를 진행했다고 3일 밝혔다. '하이 NA EUV'는 기존 EUV보다 더 큰 개구수를 적용해 해상도를 향상시킨 차세대 노광 장비다. 개구수는 렌즈가 빛을 모을 수 있는 정도를 나타내는 수치로, 값이 클수록 더 정밀한 회로 패턴 구현이 가능하다. 현존 가장 미세한 회로 패턴 구현이 가능해 선폭 축소 및 집적도를 향상시킨다. 이날 이천캠퍼스에서 열린 행사에는 ASML코리아 김병찬 사장, SK하이닉스 차선용 부
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